04应用TRIM程序模拟了离子在氚钛靶上的溅射产额。
05离化团束的溅射产额比之单体离子束高100倍以上。
06研究结果表明，磁控溅射制备的碳氟膜为非晶结构。
07其中，斜射流的情况还考虑了倾角对于溅射过程的影响。
08采用射频溅射制备BST薄膜，研究了薄膜的介电击穿特性。
09研究了用铟锡合金靶直流磁控反应溅射制备ITO透明号电膜。
10溅射原子发射的角分布概率和溅射花样与高能溅射相类似。
11这是溅射离子簇质谱中继“幻数”结构的另一个重要性质。
12所述的合金组合物优选形成为用于薄膜应用领域的溅射靶。
13采用磁控溅射法制备锰铜薄膜,溅射和真空蒸发法制备镱薄膜.
14采用射频磁控溅射法在T10碳素工具钢表面制备了氮化硼薄膜；
15本文主要论述基板员偏压与铜基体磁控溅射离子镀铝膜的关系。
16溅射时间越长或溅射功率越大或装载量越少，都有利于薄膜结晶。
17在双元靶严格解的基础上，证明了泽优溅射与原子的半径大小无关。
18脉冲溅射是一种新型的、用于消除直流反应溅射中异常放电的技术。
19枪是一种先进的真空溅射镀膜器件，可用于进行多种真空镀膜工艺。
20通过磁控反应溅射，在玻璃基底上制备了不同溅射温度下的氧化钛薄膜。
21磁控溅射离子镀铝膜不是简单的单质外接铝膜，而是铜和铝组成的合金膜。
22但在宽脉冲方波气压激励下，所用溅射薄膜压力传感器出现响应失真现象。
23所有涂料通过混合物理气相沉积过程，结合磁控溅射和脉冲激光沉积的制备。
24并在其外表面溅射镀铜，粘接强度及粘接精度在高温环境下均达到设计要求。
25低溅射功率下，与键角畸变有关的结构无序是导致光学带隙变窄的主要因素。
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